|
Границы моего языка означают границы моего мира.
Л.
Карнап, Л. Витгенштейн. Логическая семантика.
|
Дзен
Будизме говорится, для того чтобы видеть
картину, надо посмотреть на картину со
стороны, невозможно видеть Картину находясь
в центре картины
|
|
"Зачем
вам это, батенька. Лучше б водки выпили...."
© Н. В. Гоголь
|
Технология
Intel
использует ультрафиолетовый диапазон для литографии, поэтому
эта технология имеет дифракционные ограничения, и поэтому Intel
не
сможет использовать ультрафиолет в литографии процессе ниже
1-10 нм.
Я
предлагаю технология рентгеновской оптики для литографии,
это позволит использования литографию в нанометрическом диапазоне
от 1 до 0,0001 нм, и ниже. У меня есть разработки
как производить работы в рентгеновском диапазоне.
Развитие
HardWare
будет двигаться в сторону нанопроцессов, так INTEL
планирует выпускать нанотранзистор 50 нм,
что в 2 раза меньше, чем вирус гриппа внизу привожу фотографию
Intel.
Фотографии
взяты из публикаций фирмы INTEL
автор Yan
Borodovsky
Вот планы Intel
по выпуску
микрочипов.
Вот
морально устаревшая схема литографического процесса Intel.
Почему я называю его морально устаревшим технологическим процессом,
в том что он работает в ультрафиолетовом спектре,
у меня есть
мысли о патентовании в
USA
новых
технологических процессов на использовании рентгеновского спектра.
По
этому поводу использования рентгеновского диапазона я веду переписку
с Yan
Borodovsky,
внизу краткий фрагмент из переписки.
Subject:RE:
lithography strategy for 0,1 -0,001 nm
Node
Date:Mon,
31 May 2004 10:30:32 -0700
From:"Borodovsky,
Yan" <yan.borodovsky@intel.com>
To:"timur"
sulcement@yahoo.com
Dear
Mr. Yunusov,
My
area of interests and responsibility does not include topics
listed below.
I'm
forwarding your email to our External Research department and
to those in our company who work on use of EUV for lithography.
They
will contact you directly if they find your proposition worthy
of further discussion.
Thank
you for contacting Intel,
Yan
Borodovsky
Inrel
Corp.
Примечание:
Технология Intel
использует ультрафиолетовый диапазон для литографии, поэтому
эта технология имеет дифракционные ограничения, и поэтому Intel
не
сможет использовать ультрафиолет в литографии процессе ниже
1-10 нм. В настоящее время в обсуждаю, некоторые идеи нанотехнологии
со специалистами департамента литографии Intel,
возможность использования литографии в нанометрическом диапазоне
от 1 до 0,0001 нм, и ниже.
Также у меня есть
идея, как использовать рентгеновскую оптику для синтеза наноматриц-катализатаров
для химического синтеза.
|
